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日本日立Hitachi光電直讀光譜儀OE750/OE720
詳細信息| 詢價留言品牌：日本日立Hitachi 型號：/OE720 加工定制：否 光源：光電 波長范圍：119-670 nm 焦距：1200 分析時間：*** 氣體要求：*** 外形尺寸：425*760*535 mm 日本日立Hitachi光電直讀光譜儀OE-750/OE-720
簡介
OE720和OE750是突破性的OES金屬分析儀。其涵蓋了金屬*元素的全部光譜，并具有同類產品中較低的檢出限。 由于行業法規日益嚴格，供應鏈變得復雜以及更多地使用廢料作為基礎材料，因此鑄造廠和金屬制造商必須將雜質和痕量元素控制在*低ppm范圍內。在過去，這一級別的OES對許多企業而言是遙不可及。日立分析儀器推出的OE系列可改變這一現狀。 日立直讀光譜儀可用于分析所有主要合金元素，并識別金屬中含量較低的雜質、痕量元素和關心元素，OE750還覆蓋了罕見的應用，例如銅中的氧氣和鈦中的氧氣、氮氣和氫氣。 OE系列的測量速度快、可靠性高且運營成本低，可進行高性價比的日常分析和全面質量控制，其性能可與更大、更貴的光譜儀媲美。 *根據應用，有關更多詳細信息，請索取我們的應用報告。
臺式/落地式直讀光譜儀是高性價比的金屬分析,OE720和OE750是突破性的OES金屬分析儀。其涵蓋了金屬元素的全部光譜，并具有同類產品中較低的檢出限。
日本日立Hitachi光電直讀光譜儀OE-750/OE-720技術參數- 類型
- 光學, 火花光發射
- 應用領域
- 用于實驗室, 用于氣體分析, 用于分析金屬, 用于冶金產業, 用于鑄造車間, 用于金屬加工
- 配置
- 臺式
- 其他特性
- 高解析度, 高精度
- 波長
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*多: 766 nm
*少: 119 nm
- 長度
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76 cm
(29.92 in) - 寬度
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43 cm
(16.93 in) - 高度
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54 cm, 125 cm
(21.26 in, 49.21 in)
光學系統
• LightWing 技術: Paschen-Runge裝置的多CMOS光學系統和優化的像素分辨率
• 焦距: 400 mm
• 波長: OE720: 174-670* nm / OE750: 119-670* nm (*按需求可至766 nm)
• 波長實時校準
電源
• E100 - 240V AC 50/60 Hz
• *大功率: 430 W
• 待機功率 45 W (光源打開時功率 : 50 W)
產品優勢
•覆蓋所有元素，以低檢出限進行完整的金屬分析
•高光學分辨率，可控制雜質和痕量元素
•出色的長期穩定性、精度和準確性
•OE750：分析氣體（鈦中的氫和氧，銅中的氧）
•購買價格和運行成本合理，性能可與更昂貴的分析儀相提并論
•包括全面的金屬數據庫，可快速，輕松地識別牌號
•可選的進料校正軟件可實現較佳過程控制
•與基于云的數據管理的連接
應用行業
• 過程的質量控制和冶煉的驗證：分析模式/牌號鑒定
• 為所有相關的合金、殘留物、處理、痕量元素和雜質元素提供較低檢出限
• 鐵：合金、鑄鐵，氮含量低至10 ppm (僅OE750)
• 鋁：合金、鑄造合金、鍛造合金……
• 銅：青銅、黃銅、白銅……
• 鎳：哈氏合金、Inconel合金、蒙乃爾合金，氮元素低至20 ppm
• 鈦：純鈦、鈦6-4、鈦8-錳，包括氫、氧、氮等氣體元素 (僅OE750)
• 鎂、鈷、鉛、錫、鋅合金、焊料及其他
新型OE750是一款突破性的新型OES金屬分析儀。其涵蓋了金屬元素的全部光譜，并具有同類產品中zui*低的檢出限。
由于行業法規日益嚴格，供應鏈變得復雜以及更多地使用廢料作為基礎材料，因此鑄造廠和金屬制造商必須將雜質和痕量元素控制在zui*低ppm范圍內。在過去，這一級別的OES對許多企業而言是遙不可及。日立分析儀器推出的新型OE750可改變這一現狀。
這款直讀光譜儀可用于分析所有主要合金元素，并識別金屬中含量極低的雜質、痕量元素和處理元素，如鋼中的氮。 OE750的測量速度快、可靠性高且運營成本低，可進行高性價比的日常分析和全面質量控制，其性能可與更大、更貴的光譜儀媲美。
為什么選擇OE750?1. 值得信賴的結果在同類產品中控制雜質和痕量元素的光學分辨率zui*高。
2. L綜合成本低負擔得起的購買和運行成本，提供更貴分析儀器所具備的性能。
3. 保持運行不間斷設計可靠，維護和標準化要求極低。
4. 支持連續生產分析速度快，啟動時間短，可快速反饋熔液質量。
只需一臺價格合理的OE750設備，就能提供快速全面的金屬質量分析，滿足您所有的需求。 -
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